儀器簡介：

功能特點：TEM用于觀察樣品內部組織形貌，特別適用于對納米級樣品的觀測；具有結構相的樣品，能在高倍數下觀測到晶格條紋。其中，STEM綜合掃描和普通透射電子分析的特點，可以觀察較厚的試樣和低襯度的試樣，得到原子序數襯度像。EDS支持點、線及面上的元素掃描，能準確分析樣品的元素分布。

優勢：FEI Talos F200S 融合了出色的高分辨率掃描/透射電子顯微鏡 (STEM) 和 TEM 成像功能與行業領先的能量色散 X 射線光譜儀 (EDS)。在 STEM 成像上具有極大的多功能性和極高的通量。與此同時，FEI Talos F200S 還提供最高的穩定性和最長的正常運行時間。

主要技術參數：

1.分辨率：信息分辨率≤ 0.12 nm；點分辨率≤ 0.25 nm；掃描透射(STEM)分辨率≤ 0.16 nm。

2.放大倍數：TEM放大倍數25 - 1050 k；STEM放大倍數150 – 230 M。

3.肖特基場發射電子槍加速電壓：最高200 kV。

4.能譜儀探測器：兩個集成在極靴內的SDD 探頭，無窗設計；EDS立體角≥ 0.45srad；能量分辨率(10 kcps)≤ 136 eV (Mn-Ka)。

應用領域：應用于材料科學、半導體、納米技術等領域的顯微形貌、晶體結構和相組織的觀察與分析。各種材料微區化學成分的定性和半定量檢測。